| 사용 | 반도체 가열, 완화, 경화, 800 °C~1100 °C 사이의 온도까지 진열, 큰 특수 부하 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 Ｃ |
| 작업 온도 | 1100 급 Ｃ |
| 챔버 사이즈 | D1100xW600xH1000mm/44x24x40″ |
| 챔버 물질 | 고알루미나 JM26# 벽돌 |
| 사용 | 어닐링, 템퍼링, 경화 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 Ｃ |
| 작동 온도 | 1100 급 Ｃ |
| 챔버 사이즈 | D1200xW1000xH1000mm |
| 챔버 물질 | 고산화알미늄 빛 벽돌 |
| 사용 | 어닐링, 템퍼링, 경화 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 Ｃ |
| 작동 온도 | 1100 급 Ｃ |
| 챔버 사이즈 | D1200xW1000xH1000mm |
| 챔버 물질 | 고산화알미늄 빛 벽돌 |
| 사용 | 염소 하에서 분말 재료를 가공 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1600 급 Ｃ |
| 작업 온도 | 1500도 |
| 가열 길이 | 900 밀리미터 |
| 튜브 직경 | OD170mm |
| 사용 | 열처리, 생물자원 열분해 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1700 급 Ｃ |
| 작동 온도 | 1600 급 Ｃ |
| 가열 길이 | 600 밀리미터 |
| 튜브 직경 | OD100mm ID90mm |
| 사용 | 열처리, 생물자원 열분해 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1700 급 Ｃ |
| 작동 온도 | 1600 급 Ｃ |
| 가열 길이 | 600 밀리미터 |
| 튜브 직경 | OD80mm ID72mm |
| 사용 | 금속, 세라믹과 같은 소형 가공물의 연속적인 열처리, 건조, 일반적으로 물이나 불순물의 완전한 제거를 위해, |
|---|---|
| 작업 온도 | 500 급 Ｃ |
| 챔버 사이즈 | W300xD3000xH200mm |
| 프로뒤션 | 40KGS/hour |
| 챔버 물질 | 미츠비시 원료 고알루미나 1500# 섬유판 |
| 사용 | 실험실 및 산업 분야의 신소재, 세라믹에 대한 하소, 소결 및 기타 공정. |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1700 급 Ｃ |
| 작업 온도 | 1600 급 Ｃ |
| 챔버 사이즈 | 400x400x400mm(16x16x16″) 용량: 64리터 |
| 챔버 물질 | 미츠비시 원료 고알루미나 1850# 섬유판 |
| 사용 | 금속, 세라믹 등 소형 공작물의 연속 건조, 수분 또는 불순물의 완전한 제거 |
|---|---|
| 작업 온도 | 500 급 Ｃ |
| 챔버 사이즈 | W300xD3000xH200mm |
| 프로뒤션 | 40KGS/hour |
| 챔버 물질 | 미츠비시 원료 고알루미나 1500# 섬유판 |
| 사용 | 소성, 소결, 신소재 공정, 실험실 및 산업 분야의 세라믹. |
|---|---|
| Tmax temperature | 1700 degree C |
| Working temperature | 1600 degree C |
| 챔버 사이즈 | 300x300x300mm (12x12x12") 용량: 27 리터 |
| Chamber material | Mitsubishi Raw Material high alumina 1800# fiber board |
