| 사용 | 열처리, 점화, 결정, 재가 된 해석 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 C |
| 작동 온도 | 1100 급 C |
| 챔버 사이즈 | W600xD400xH400mm |
| 챔버 물질 | 고알루미나질내화벽돌 |
| 사용 | 열처리, 점화, 결정, 재가 된 해석 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 C |
| 작동 온도 | 1100 급 C |
| 챔버 사이즈 | W400xD400xH400mm |
| 챔버 물질 | 고알루미나질내화벽돌 |
| 사용 | 열처리, 점화, 결정, 재가 된 해석 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 C |
| 작동 온도 | 1100 급 C |
| 챔버 사이즈 | W400xD400xH400mm |
| 챔버 물질 | 고알루미나질내화벽돌 |
| 사용 | 열처리, 점화, 결정, 재가 된 해석 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 C |
| 작동 온도 | 1100 급 C |
| 챔버 사이즈 | W400xD400xH400mm |
| 챔버 물질 | 고알루미나질내화벽돌 |
| 사용 | 열처리, 점화, 결정, 재가 된 해석 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 C |
| 작동 온도 | 1100 급 C |
| 챔버 사이즈 | W400xD400xH400mm |
| 챔버 물질 | 고알루미나질내화벽돌 |
| 사용 | 금속, 세라믹과 같은 소형 가공물의 연속적인 열처리, 건조, 일반적으로 물이나 불순물의 완전한 제거를 위해, |
|---|---|
| 작업 온도 | 500 급 C |
| 챔버 사이즈 | W300xD3000xH200mm |
| 프로뒤션 | 40KGS/hour |
| 챔버 물질 | 미츠비시 원료 고알루미나 1500# 섬유판 |
| 사용 | 금속, 세라믹 등 소형 공작물의 연속 건조, 수분 또는 불순물의 완전한 제거 |
|---|---|
| 작업 온도 | 500 급 C |
| 챔버 사이즈 | W300xD3000xH200mm |
| 프로뒤션 | 40KGS/hour |
| 챔버 물질 | 미츠비시 원료 고알루미나 1500# 섬유판 |
| 사용 | 열처리, 반응 연구, 소결 공정, 세라믹 소성 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1400도 |
| 작업 온도 | 1300도 |
| 챔버 크기(DxWxH) | 400x300x300mm /16x12x12″ 용량:36 리터 |
| 전원 공급 | 12KW AC380-415V, 50/60Hz, 3상 |
| 사용 | 주로 탄소 제품, 금속, 세라믹 재료 시너지 등 많은 종류의 열 처리에 적합 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 C |
| 작업 온도 | 1100 급 C |
| 챔버 크기(DxWxH) | D1000xW800xH1250mm /40x32x50″ 용량: 1000L |
| 전원 공급 | 80KW,AC380-415V,50/60Hz,3상 |
| 사용 | 열처리, 점화, 결정, 재가 된 해석 |
|---|---|
| Tmax 온도 | 1200 급 C |
| 작동 온도 | 1100 급 C |
| 챔버 사이즈 | W400xD400xH400mm |
| 챔버 물질 | 고알루미나질내화벽돌 |